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進口溫補晶振大全,提供日本進口溫補節(jié)能改造-歐美進口溫補晶振!
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KDS晶振,DSO321SBM/SBN/SVN晶振,3225貼片晶振

KDS晶振,DSO321SBM/SBN/SVN晶振,3225貼片晶振

頻率:0.7~90MHz
尺寸:3.2×2.5mm pdf 晶振技術
參數資料

有源晶振,是只晶體本身起振需要外部電壓供應,起振后可直接驅動CMOS 集成電路,產品本身已實現與薄型IC(TSSOP封裝,TVSOP封裝)同樣的1mm厚度,斷開時的消費電流是15 µA以下,編帶包裝方式可對應自動搭載及IR回流焊接(無鉛對應)產品有幾種電壓供選1.8V,2.5V,3V3.3V,5V,以應對不同IC產品需要..

KDS晶振,DSO223SK晶振,DSO323SK晶振,貼片晶振

KDS晶振,DSO223SK晶振,DSO323SK晶振,貼片晶振

頻率:13.5~167MH...
尺寸:2.5×2.0mm,3.2... pdf 晶振技術
參數資料

高精度晶片的拋光技術:是目前晶片研磨技術中表面處理技術的最高技術,最終使晶片表面更光潔,平行度及平面度更好,降低諧振電阻,提高Q值。從而達到一般研磨所達不到的產品性能,使石英晶體元器件的等效電阻等更接近理論值,使石英晶體元器件可在更低功耗下工作

KDS晶振,DSO223SJ晶振,DSO323SJ晶振,普通有源晶振

KDS晶振,DSO223SJ晶振,DSO323SJ晶振,普通有源晶振

頻率:13.5~167MH...
尺寸:2.5×2.0mm,3.2... pdf 晶振技術
參數資料

高精度晶片的拋光技術:是目前晶片研磨技術中表面處理技術的最高技術,最終使晶片表面更光潔,平行度及平面度更好,降低諧振電阻,提高Q值。從而達到一般研磨所達不到的產品性能,使石英晶體元器件的等效電阻等更接近理論值,使石英晶體元器件可在更低功耗下工作

KDS晶振,DSO223SD晶振,DSO323SD晶振,有源晶振

KDS晶振,DSO223SD晶振,DSO323SD晶振,有源晶振

頻率:13.5~167MH...
尺寸:2.5×2.0mm,3.2... pdf 晶振技術
參數資料

高精度晶片的拋光技術:是目前晶片研磨技術中表面處理技術的最高技術,最終使晶片表面更光潔,平行度及平面度更好,降低諧振電阻,提高Q值。從而達到一般研磨所達不到的產品性能,使石英晶體元器件的等效電阻等更接近理論值,使石英晶體元器件可在更低功耗下工作

KDS晶振,DSO221SW晶振,2520貼片有源晶振

KDS晶振,DSO221SW晶振,2520貼片有源晶振

頻率:3.25~60MHz
尺寸:2.5×2.0mm pdf 晶振技術
參數資料

高精度晶片的拋光技術:是目前晶片研磨技術中表面處理技術的最高技術,最終使晶片表面更光潔,平行度及平面度更好,降低諧振電阻,提高Q值。從而達到一般研磨所達不到的產品性能,使石英晶體元器件的等效電阻等更接近理論值,使石英晶體元器件可在更低功耗下工作

KDS晶振,DSO221SR晶振,32.768K有源晶振

KDS晶振,DSO221SR晶振,32.768K有源晶振

頻率:32.768KHz
尺寸:2.5×2.0mm pdf 晶振技術
參數資料

有源晶振,是只晶體本身起振需要外部電壓供應,起振后可直接驅動CMOS 集成電路,產品本身已實現與薄型IC(TSSOP封裝,TVSOP封裝)同樣的1mm厚度,斷開時的消費電流是15 µA以下,編帶包裝方式可對應自動搭載及IR回流焊接(無鉛對應)產品有幾種電壓供選1.8V,2.5V,3V3.3V,5V,以應對不同IC產品需要..

KDS晶振,DSO221SN晶振,2520有源晶振

KDS晶振,DSO221SN晶振,2520有源晶振

頻率:1.5625~100...
尺寸:2.5×2.0mm pdf 晶振技術
參數資料

小體積有源石英晶體振蕩器,在生產時需要在完全凈化車間,在密封的機器設備中測良,封裝等技術1.防止外界氣體進入組件體內受到污染和增加應力的產生;2.使組件在真空下電阻減小;3.氣密性高。此技術為研發(fā)及生產超小型、超薄型石英晶體元器必須攻克的關鍵技術之一。

KDS晶振,DSO221SHF晶振,SPXO晶體振蕩器

KDS晶振,DSO221SHF晶振,SPXO晶體振蕩器

頻率:1.5~80MHz
尺寸:2.5×2.0mm pdf 晶振技術
參數資料

小體積有源石英晶體振蕩器,在生產時需要在完全凈化車間,在密封的機器設備中測良,封裝等技術1.防止外界氣體進入組件體內受到污染和增加應力的產生;2.使組件在真空下電阻減小;3.氣密性高。此技術為研發(fā)及生產超小型、超薄型石英晶體元器必須攻克的關鍵技術之一。

KDS晶振,DSO221SH晶振,2520有源晶振

KDS晶振,DSO221SH晶振,2520有源晶振

頻率:3.5~52MHz
尺寸:2.5×2.0mm pdf 晶振技術
參數資料

小體積有源石英晶體振蕩器,在生產時需要在完全凈化車間,在密封的機器設備中測良,封裝等技術1.防止外界氣體進入組件體內受到污染和增加應力的產生;2.使組件在真空下電阻減小;3.氣密性高。此技術為研發(fā)及生產超小型、超薄型石英晶體元器必須攻克的關鍵技術之一。

KDS晶振,DSO221SBM晶振,普通有源晶體振蕩器

KDS晶振,DSO221SBM晶振,普通有源晶體振蕩器

頻率:3.25~52MHz
尺寸:2.5×2.0mm pdf 晶振技術
參數資料

小體積有源石英晶體振蕩器,在生產時需要在完全凈化車間,在密封的機器設備中測良,封裝等技術1.防止外界氣體進入組件體內受到污染和增加應力的產生;2.使組件在真空下電阻減小;3.氣密性高。此技術為研發(fā)及生產超小型、超薄型石英晶體元器必須攻克的關鍵技術之一。

KDS晶振,DSO213AW晶振,2016貼片有源晶振

KDS晶振,DSO213AW晶振,2016貼片有源晶振

頻率:3.25~60MHz
尺寸:2.0×1.6mm pdf 晶振技術
參數資料

小體積有源石英晶體振蕩器,在生產時需要在完全凈化車間,在密封的機器設備中測良,封裝等技術1.防止外界氣體進入組件體內受到污染和增加應力的產生;2.使組件在真空下電阻減小;3.氣密性高。此技術為研發(fā)及生產超小型、超薄型石英晶體元器必須攻克的關鍵技術之一。

KDS晶振,DSO211AR晶振,貼片型石英晶體振蕩器

KDS晶振,DSO211AR晶振,貼片型石英晶體振蕩器

頻率:0.4~80MHz
尺寸:2.0×1.6mm pdf 晶振技術
參數資料

小體積有源石英晶體振蕩器,在生產時需要在完全凈化車間,在密封的機器設備中測良,封裝等技術1.防止外界氣體進入組件體內受到污染和增加應力的產生;2.使組件在真空下電阻減小;3.氣密性高。此技術為研發(fā)及生產超小型、超薄型石英晶體元器必須攻克的關鍵技術之一。

KDS晶振,DSO211AN晶振,有源晶振

KDS晶振,DSO211AN晶振,有源晶振

頻率:1.5625~100...
尺寸:2.0×1.6mm pdf 晶振技術
參數資料

小體積有源石英晶體振蕩器,在生產時需要在完全凈化車間,在密封的機器設備中測良,封裝等技術1.防止外界氣體進入組件體內受到污染和增加應力的產生;2.使組件在真空下電阻減小;3.氣密性高。此技術為研發(fā)及生產超小型、超薄型石英晶體元器必須攻克的關鍵技術之一。

KDS晶振,DSO211AH晶振,2016石英晶振

KDS晶振,DSO211AH晶振,2016石英晶振

頻率:3.25~52MHz
尺寸:2.0×1.6mm pdf 晶振技術
參數資料

小體積有源石英晶體振蕩器,在生產時需要在完全凈化車間,在密封的機器設備中測良,封裝等技術1.防止外界氣體進入組件體內受到污染和增加應力的產生;2.使組件在真空下電阻減小;3.氣密性高。此技術為研發(fā)及生產超小型、超薄型石英晶體元器必須攻克的關鍵技術之一。

KDS晶振,DSO211AB晶振,普通有源晶體振蕩器

KDS晶振,DSO211AB晶振,普通有源晶體振蕩器

頻率:3.25~52MHz
尺寸:2.0×1.6mm pdf 晶振技術
參數資料

小體積有源石英晶體振蕩器,在生產時需要在完全凈化車間,在密封的機器設備中測良,封裝等技術1.防止外界氣體進入組件體內受到污染和增加應力的產生;2.使組件在真空下電阻減小;3.氣密性高。此技術為研發(fā)及生產超小型、超薄型石英晶體元器必須攻克的關鍵技術之一。

KDS晶振,DSF753SDF濾波器,SAW濾波器

KDS晶振,DSF753SDF濾波器,SAW濾波器

頻率:20~130MHz
尺寸:5.0×7.0mm pdf 晶振技術
參數資料

晶體內部石英晶片均采用了全自動壓電石英晶片清洗技術,采用高壓噴淋清洗,兆聲振動的原理,一個全自動、清洗過程由PLC控制,由傳輸裝置、噴淋清洗段、噴淋漂洗段、風力吹水段等, 操作自動化程度高,除上下工件需要人工外,其余全部由設備自動完成。根據需要,對速度,溫度,時間等參數進行調整,使之最大限度的滿足工藝需要。

KDS晶振,DSF753SBF濾波器,5070貼片濾波器

KDS晶振,DSF753SBF濾波器,5070貼片濾波器

頻率:30~70MHz
尺寸:5.0×7.0mm pdf 晶振技術
參數資料

晶體內部石英晶片均采用了全自動壓電石英晶片清洗技術,采用高壓噴淋清洗,兆聲振動的原理,一個全自動、清洗過程由PLC控制,由傳輸裝置、噴淋清洗段、噴淋漂洗段、風力吹水段等, 操作自動化程度高,除上下工件需要人工外,其余全部由設備自動完成。根據需要,對速度,溫度,時間等參數進行調整,使之最大限度的滿足工藝需要。

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